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解說(shuō)什么是機(jī)械拋光

  解說(shuō)什么是機(jī)械拋光
  機(jī)械拋光:拋光的目的就是要盡快地把磨光工序留下的變形層除去,并使拋光產(chǎn)生的變形層不影響顯微組織的觀察。
  拋光操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到較大的拋光速率,以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層,同時(shí)要使拋光產(chǎn)生的變形層不致影響較終觀察到的組織,即不會(huì)產(chǎn)生假象。
  這兩個(gè)要求是有矛盾的,前者要求使用較粗的磨料,但會(huì)使拋光變形層較深;后者要求使用較細(xì)的磨料,但拋光速率較低,解決這個(gè)矛盾的較好辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段來(lái)進(jìn)行。
  首先是粗拋,目的是除去磨光的變形層,這一階段應(yīng)具有較大的拋光速率,粗拋本身形成的變形層是次要的考慮,不過(guò)也應(yīng)盡可能小,其次是精拋,其目的是除去粗拋產(chǎn)生的變形層,使拋光損傷減到較小。
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